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针对缓冲层改进的4H-SiC MESFETs新结构设计与仿真
 
     论文目录
 
摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第11-12页
缩略语对照表第12-15页
第一章 绪论第15-25页
    1.1 SiC MESFET优势第15-17页
    1.2 4H-SiC MESFET研究现状第17-22页
    1.3 本文主要研究内容第22-25页
第二章 缓冲层沟道对器件性能的影响第25-35页
    2.1 数值模拟工具ISE-TCAD及其物理模型第25-27页
    2.2 DR-MESFET结构及其直流特性第27-31页
        2.2.1 DR-MESFET结构第27-28页
        2.2.2 输出电流第28-29页
        2.2.3 击穿电压第29-30页
        2.2.4 最大输出功率密度第30-31页
    2.3 交流特性第31-34页
        2.3.1 跨导第31-32页
        2.3.2 栅源电容、漏栅电容第32-33页
        2.3.3 截止频率、最大振荡频率第33-34页
    2.4 本章小结第34-35页
第三章 具有双凹陷缓冲层、多凹陷沟道 4H-SiC MESFET设计第35-49页
    3.1 DRB-MESFET结构第35-37页
    3.2 直流特性第37-40页
    3.3 交流特性第40-43页
    3.4 缓冲层凹陷深度Hdr的影响第43-48页
        3.4.1 H_(dr)对直流特性的影响第44-46页
        3.4.2 H_(dr)对交流特性的影响第46-48页
    3.5 本章小结第48-49页
第四章 具有 Γ 栅凹陷缓冲层 4H-SiC MESFET设计第49-63页
    4.1 ΓRB-MESFET结构第49-50页
    4.2 直流特性第50-53页
    4.3 交流特性第53-56页
    4.4 高栅相对沟道表面高度Hug的影响第56-62页
        4.4.1 H_(ug)对直流特性的影响第56-60页
        4.4.2 H_(ug)对频率特性的影响第60-62页
    4.5 本章小结第62-63页
第五章 结论与展望第63-65页
    5.1 结论第63-64页
    5.2 研究展望第64-65页
参考文献第65-69页
致谢第69-71页
作者简介第71-73页

 
 
论文编号BS2555445,这篇论文共73
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