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针对缓冲层改进的4H-SiC MESFETs新结构设计与仿真 |
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论文目录 |
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摘要 | 第5-6页 | ABSTRACT | 第6-7页 | 符号对照表 | 第11-12页 | 缩略语对照表 | 第12-15页 | 第一章 绪论 | 第15-25页 | 1.1 SiC MESFET优势 | 第15-17页 | 1.2 4H-SiC MESFET研究现状 | 第17-22页 | 1.3 本文主要研究内容 | 第22-25页 | 第二章 缓冲层沟道对器件性能的影响 | 第25-35页 | 2.1 数值模拟工具ISE-TCAD及其物理模型 | 第25-27页 | 2.2 DR-MESFET结构及其直流特性 | 第27-31页 | 2.2.1 DR-MESFET结构 | 第27-28页 | 2.2.2 输出电流 | 第28-29页 | 2.2.3 击穿电压 | 第29-30页 | 2.2.4 最大输出功率密度 | 第30-31页 | 2.3 交流特性 | 第31-34页 | 2.3.1 跨导 | 第31-32页 | 2.3.2 栅源电容、漏栅电容 | 第32-33页 | 2.3.3 截止频率、最大振荡频率 | 第33-34页 | 2.4 本章小结 | 第34-35页 | 第三章 具有双凹陷缓冲层、多凹陷沟道 4H-SiC MESFET设计 | 第35-49页 | 3.1 DRB-MESFET结构 | 第35-37页 | 3.2 直流特性 | 第37-40页 | 3.3 交流特性 | 第40-43页 | 3.4 缓冲层凹陷深度Hdr的影响 | 第43-48页 | 3.4.1 H_(dr)对直流特性的影响 | 第44-46页 | 3.4.2 H_(dr)对交流特性的影响 | 第46-48页 | 3.5 本章小结 | 第48-49页 | 第四章 具有 Γ 栅凹陷缓冲层 4H-SiC MESFET设计 | 第49-63页 | 4.1 ΓRB-MESFET结构 | 第49-50页 | 4.2 直流特性 | 第50-53页 | 4.3 交流特性 | 第53-56页 | 4.4 高栅相对沟道表面高度Hug的影响 | 第56-62页 | 4.4.1 H_(ug)对直流特性的影响 | 第56-60页 | 4.4.2 H_(ug)对频率特性的影响 | 第60-62页 | 4.5 本章小结 | 第62-63页 | 第五章 结论与展望 | 第63-65页 | 5.1 结论 | 第63-64页 | 5.2 研究展望 | 第64-65页 | 参考文献 | 第65-69页 | 致谢 | 第69-71页 | 作者简介 | 第71-73页 |
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