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磁控溅射制备NiTi基形状记忆合金薄膜及性能研究
 
     论文目录
 
摘要第3-4页
abstract第4-5页
第一章 绪论第8-24页
    1.1 形状记忆合金薄膜的应用和制备第8-12页
        1.1.1 形状记忆合金简介第8-9页
        1.1.2 形状记忆合金薄膜在MEMS方面的应用第9-11页
        1.1.3 NiTi合金薄膜的制备第11-12页
    1.2 NiTi基形状记忆合金薄膜相变研究第12-14页
        1.2.1 马氏体相变第12-13页
        1.2.2 预马氏体相变和R相变第13页
        1.2.3 薄膜厚度和晶粒尺寸对NiTi薄膜相变的影响第13-14页
    1.3 MEMS表面疏水研究进展第14-15页
    1.4 合金元素对NiTi基薄膜相变特征和性能的影响第15-21页
        1.4.1 元素成分NiTi形状记忆合金薄膜的影响第15-18页
        1.4.2 添加合金元素对NiTi基薄膜的影响第18-21页
    1.5 同步辐射XRD在NiTi基形状记忆合金领域的应用现状第21-22页
    1.6 本文研究的意义和内容第22-24页
        1.6.1 研究的目的和意义第22页
        1.6.2 研究的内容第22-24页
第二章 薄膜的制备和性能测试方法第24-33页
    2.1 基体材料选择及前处理第24页
    2.2 薄膜的制备和热处理第24-26页
        2.2.1 NiTi薄膜的制备和热处理第24页
        2.2.2 NiTiAl薄膜的制备和热处理第24-26页
    2.3 薄膜的组织形貌分析第26-27页
        2.3.1 薄膜的成分和相组成分析第26页
        2.3.2 薄膜的表面和截面形貌分析第26-27页
    2.4 薄膜的综合性能测试第27-30页
        2.4.1 薄膜的疏水性能测试第27页
        2.4.2 薄膜的纳米压痕性能分析第27-30页
    2.5 薄膜的相变特征分析第30-33页
        2.5.1 DSC测试第30页
        2.5.2 PPMS测试第30-31页
        2.5.3 同步辐射XRD分析第31-32页
        2.5.4 环境可控AFM测试第32-33页
第三章 NITI薄膜热处理对表面形貌和疏水性的影响第33-41页
    3.1 NiTi薄膜的热处理和相组成之间的关系第34-36页
    3.2 NiTi薄膜的热处理和表面形貌之间的关系第36-38页
    3.3 NiTi薄膜的热处理和疏水性之间的关系第38-39页
    3.4 本章小结第39-41页
第四章 NITIAL薄膜溅射靶电流对表面形貌和力学性能的影响第41-58页
    4.1 NiTiAl薄膜制备试验参数和成分第41-43页
    4.2 NiTiAl薄膜热处理工艺确定第43-45页
    4.3 NiTiAl薄膜室温相组成第45-48页
    4.4 NiTiAl薄膜表面形貌第48-52页
    4.5 NiTiAl薄膜的纳米压痕性能第52-57页
    4.6 本章小结第57-58页
第五章 NITIAL薄膜相变行为研究第58-65页
    5.1 NiTiAl薄膜的DSC测试第58-59页
    5.2 NiTiAl薄膜的PPMS测试第59-61页
    5.3 NiTiAl薄膜的环境可控原子力测试第61-62页
    5.4 NiTiAl薄膜的同步辐射XRD测试及结果分析第62-63页
    5.5 本章小结第63-65页
第六章 结论第65-66页
参考文献第66-74页
致谢第74-75页
攻读硕士学位期间已发表或录用的论文第75页

 
 
论文编号BS4597796,这篇论文共75
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