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ECR-CVD制备a-SixN：H薄膜及其发光性能的研究
 
     论文目录
 
摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 引言第7-12页
   ·硅基发光材料研究的背景及意义第7-8页
   ·硅基发光材料研究的历史第8-10页
   ·本论文的研究思路和主要内容第10-12页
第二章 实验第12-18页
   ·ECR等离子体的基本原理第12-14页
   ·实验装置第14-15页
   ·基片的清洗第15-16页
   ·薄膜的沉积第16页
   ·电致发光器件的制作第16-18页
第三章 薄膜的表征第18-30页
   ·膜厚测量第18-19页
   ·发射光谱第19-22页
   ·红外透射光谱第22-23页
   ·X射线光电子能谱第23-25页
   ·紫外可见光谱分析(UV)第25-27页
   ·固体的发光第27-30页
第四章 薄膜生长及其发光性能的研究第30-41页
   ·薄膜的生长第30-37页
     ·前驱等离子体的发射光谱第30-31页
     ·薄膜的生长速率第31-32页
     ·薄膜的红外透射光谱第32-36页
     ·薄膜的X射线光电子能谱第36-37页
     ·小结第37页
   ·薄膜的光电性质第37-41页
     ·光致发光第37-38页
     ·电致发光第38-40页
     ·发光机理第40-41页
第五章 结语第41-42页
参考文献第42-44页
硕士期间发表的论文第44-45页
致谢第45-46页
中文详细摘要第46-48页
 
 
论文编号BS1198597，这篇论文共48页
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