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DD3单晶高温合金强流脉冲电子束表面改性研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第1-5页 | | ABSTRACT | 第5-10页 | | 第一章 绪论 | 第10-24页 | | ·引言 | 第10-11页 | | ·电子束 | 第11-19页 | | ·电子束的发展历史 | 第11-12页 | | ·电子束表面改性技术分类 | 第12-16页 | | ·按入射电子束形式 | 第12-14页 | | ·按材料表面处理成效 | 第14-16页 | | ·电子束表面处理技术的特点 | 第16-17页 | | ·电子束材料表面改性的应用及研究现状 | 第17-19页 | | ·表面改性领域中的电子束技术 | 第17页 | | ·电子束表面改性应用现状 | 第17-19页 | | ·强流脉冲电子束 | 第19-23页 | | ·强流脉冲电子束表面改性国外研究现状 | 第20-21页 | | ·强流脉冲电子束表面改性国内研究现状 | 第21-23页 | | ·选题的目的和意义 | 第23-24页 | | 第二章 实验材料、设备及方法 | 第24-36页 | | ·DD3 单晶镍基高温合金 | 第24-25页 | | ·强流脉冲电子束表面改性实验 | 第25-28页 | | ·强流脉冲电子束设备的构造 | 第25页 | | ·强流脉冲电子束设备的工作原理 | 第25-27页 | | ·强流脉冲电子束装置的工艺参数 | 第27页 | | ·实验方法 | 第27-28页 | | ·表面改性层的显微硬度分布的测量 | 第28-29页 | | ·实验设备 | 第28页 | | ·实验方法 | 第28-29页 | | ·表面改性层的热腐蚀性能测试 | 第29-32页 | | ·热腐蚀的特征 | 第29-30页 | | ·第一种类型热腐蚀(HTHC) | 第29-30页 | | ·第二种类型热腐蚀(LTHC) | 第30页 | | ·热腐蚀试验设备 | 第30-31页 | | ·SRJX-8-13 高温箱式电阻炉 | 第30-31页 | | ·KSY-12-16(A)电炉温度控制器 | 第31页 | | ·热腐蚀试验内容及方法 | 第31-32页 | | ·热腐蚀盐的选择 | 第31-32页 | | ·热腐蚀反应温度的选择 | 第32页 | | ·热腐蚀实验 | 第32页 | | ·高温氧化实验 | 第32-34页 | | ·合金的高温氧化理论 | 第32-33页 | | ·实验设备 | 第33-34页 | | ·高温氧化实验内容及方法 | 第34页 | | ·试验方法的选择 | 第34页 | | ·试样处理 | 第34页 | | ·高温氧化实验 | 第34页 | | ·本章小结 | 第34-36页 | | 第三章 样品表面改性层测试结果及分析 | 第36-54页 | | ·表面改性层的显微硬度分布 | 第36-39页 | | ·热腐蚀试验结果和讨论 | 第39-46页 | | ·热腐蚀后样品表面形貌 | 第39-43页 | | ·热腐蚀的成分分析和讨论 | 第43-46页 | | ·高温氧化试验结果和讨论 | 第46-53页 | | ·氧化增重实验结果 | 第46-47页 | | ·氧化膜外观分析 | 第47-49页 | | ·氧化膜表面形貌分析 | 第49-50页 | | ·氧化膜成分分析及氧化机制 | 第50-53页 | | ·本章小结 | 第53-54页 | | 第四章 电子束轰击材料表面的温度场数值模拟 | 第54-60页 | | ·传热过程和特点 | 第54-55页 | | ·模拟过程 | 第55-59页 | | ·计算方法的选择 | 第55页 | | ·温度场的数学物理模型 | 第55-58页 | | ·模拟结果 | 第58-59页 | | ·本章小结 | 第59-60页 | | 第五章 轰击后样品表面特征及实验分析 | 第60-79页 | | ·样品表面形貌和凹坑的形成机理 | 第60-65页 | | ·表面凹坑的密度分布 | 第65-66页 | | ·表面X-ray 衍射分析 | 第66-68页 | | ·表面织构分析 | 第68-72页 | | ·电子背散射衍射(EBSD)的形成原理及其包含的物理含义 | 第68-69页 | | ·EBSD 实验设备 | 第69页 | | ·表层织构分析 | 第69-72页 | | ·表面正电子湮没实验 | 第72-78页 | | ·正电子湮没谱学 | 第72-73页 | | ·实验仪器 | 第73-75页 | | ·正电子湮没多普勒展宽能谱 | 第75-76页 | | ·实验结果分析与讨论 | 第76-78页 | | ·本章小结 | 第78-79页 | | 第六章 强流脉冲电子束作用下DD3 显微组织表征 | 第79-92页 | | ·影响区显微组织的扫描电镜观察及分析 | 第79-81页 | | ·DD3 横截面影响区扫描电镜观察及分析 | 第79-80页 | | ·表面白层(white etched layer)扫描电镜观察及分析 | 第80-81页 | | ·横截面显微组织的扫描电镜观察及分析 | 第81-84页 | | ·表面显微组织的扫描电镜观察及分析 | 第84-86页 | | ·表面熔坑显微组织的扫描 | 第84-85页 | | ·表面显微组织的扫描 | 第85-86页 | | ·表面显微组织的透射电镜观察及分析 | 第86-90页 | | ·本章小结 | 第90-92页 | | 第七章 结论与展望 | 第92-95页 | | ·结论 | 第92-94页 | | ·展望 | 第94-95页 | | 参考文献 | 第95-105页 | | 发表论文和参加科研情况说明 | 第105-106页 | | 致谢 | 第106页 |
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论文编号BS2498，这篇论文共106页
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