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基于表面等离子干涉原理的周期减小光刻技术研究 |
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| 论文目录 |
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| 摘要 | 第4-6页 | | ABSTRACT | 第6-7页 | | 第1章 绪论 | 第12-27页 | | 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第12-13页 | | 1.2 周期减小光刻技术的研究现状 | 第13-19页 | | 1.2.1 干涉光刻技术 | 第13-16页 | | 1.2.2 泰伯光刻技术 | 第16-19页 | | 1.3 周期减小光刻技术的新发展 | 第19-25页 | | 1.3.1 表面等离子干涉光刻技术 | 第19-21页 | | 1.3.2 双曲线超材料光刻技术 | 第21-25页 | | 1.4 本研究领域存在的关键技术问题和科学问题 | 第25-26页 | | 1.5 本文的主要研究内容 | 第26-27页 | | 第2章 基于表面等离子干涉和ENZ超材料的周期减小光刻理论和设计 | 第27-57页 | | 2.1 引言 | 第27页 | | 2.2 基于表面等离子干涉和ENZ超材料的周期减小光刻原理 | 第27-36页 | | 2.2.1 表面等离子干涉的激发结构 | 第28-33页 | | 2.2.2 ENZ双曲线超材料结构 | 第33-36页 | | 2.3 周期减小光刻结构设计 | 第36-53页 | | 2.3.1 干涉激发结构设计 | 第37-41页 | | 2.3.2 ENZ双曲线超材料结构的设计 | 第41-53页 | | 2.4 周期减小光刻结构的设计实例 | 第53-56页 | | 2.5 本章小结 | 第56-57页 | | 第3章 超大曝光深度周期减小光刻的研究 | 第57-71页 | | 3.1 引言 | 第57页 | | 3.2 超大曝光深度周期减小光刻原理 | 第57-63页 | | 3.2.1 MIM光栅结构 | 第58-60页 | | 3.2.2 多层波导结构 | 第60-63页 | | 3.3 超大曝光深度周期减小光刻结构设计 | 第63-68页 | | 3.3.1 SPP干涉波与一阶衍射波的匹配 | 第63-64页 | | 3.3.2 多层波导的耦合 | 第64-66页 | | 3.3.3 基于高折射率介质的超透镜结构设计 | 第66-67页 | | 3.3.4 光刻深度的优化 | 第67-68页 | | 3.4 超大曝光深度周期减小光刻结构的设计实例 | 第68-69页 | | 3.5 本章小结 | 第69-71页 | | 第4章 周期减小光刻的实验研究 | 第71-93页 | | 4.1 引言 | 第71页 | | 4.2 金属光栅模板的制备 | 第71-80页 | | 4.2.1 Mr-I模板的纳米压印 | 第72-74页 | | 4.2.2 PDMS模板的制作 | 第74-75页 | | 4.2.3 弹性PUA软模板的制作 | 第75-76页 | | 4.2.4 玻璃基底上光栅的压印 | 第76-77页 | | 4.2.5 光栅残留层的去除 | 第77-78页 | | 4.2.6 铝光栅的蒸镀 | 第78-79页 | | 4.2.7 隔离层的制作 | 第79-80页 | | 4.3 双曲线超材料多层膜的沉积 | 第80-81页 | | 4.4 周期减小光刻实验 | 第81-87页 | | 4.4.1 光刻胶薄片的制备 | 第81页 | | 4.4.2 实验平台 | 第81-82页 | | 4.4.3 曝光实验 | 第82-84页 | | 4.4.4 实验结果分析 | 第84-87页 | | 4.5 超大曝光深度周期减小光刻的实验验证 | 第87-91页 | | 4.5.1 掩膜板与光刻胶薄片的制备 | 第87-89页 | | 4.5.2 实验平台和曝光实验 | 第89-90页 | | 4.5.3 实验结果分析 | 第90-91页 | | 4.6 本章小结 | 第91-93页 | | 结论 | 第93-96页 | | 参考文献 | 第96-105页 | | 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第105-107页 | | 致谢 | 第107-108页 | | 个人简历 | 第108页 |
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论文编号BS2761848，这篇论文共108页
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