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当前位置:教育论文中心首页--硕士论文--介孔硅基材料MCM-41原位掺杂贵金属催化氧化甲苯性能的研究
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介孔硅基材料MCM-41原位掺杂贵金属催化氧化甲苯性能的研究
 
     论文目录
 
致谢第6-7页
摘要第7-9页
Abstract第9-10页
1 绪论第16-19页
    1.1 研究背景第16-18页
    1.2 研究目的和内容第18-19页
2 文献综述第19-31页
    2.1 VOCs的处理技术第19-21页
    2.2 VOCs催化燃烧(氧化)催化剂第21-27页
        2.2.1 过渡金属氧化物催化剂第21-23页
        2.2.2 钙钛矿催化剂第23-25页
        2.2.3 贵金属催化剂第25-27页
    2.3 催化活性的影响因素第27-29页
    2.4 本章小结第29-31页
3 实验部分第31-37页
    3.1 实验主要仪器及试剂第31-32页
        3.1.1 主要实验仪器第31页
        3.1.2 主要实验试剂第31-32页
    3.2 催化剂的制备方法第32-33页
        3.2.1 原位掺杂法第32-33页
        3.2.2 漫渍法第33页
    3.3 VOCs催化氧化实验装置及活性测试步骤第33-34页
    3.4 催化剂分析表征手段第34-37页
        3.4.1 晶体形态分析第34页
        3.4.2 比表面积-孔结构测试第34页
        3.4.3 微观形貌分析第34-35页
        3.4.4 电感耦合等离子体发射光谱分析第35页
        3.4.5 X射线光电子能谱分析第35页
        3.4.6 程序升温脱附和程序升温还原分析第35页
        3.4.7 吡啶吸附红外扫描第35-37页
4 Pt-Pd/MCM-41催化剂的制备、表征及其催化性能研究第37-54页
    4.1 Pt-Pd/MCM-41催化荆的制备第37页
    4.2 主要表征手段第37页
    4.3 结果与讨论第37-52页
        4.3.1 催化活性测试结果第37-38页
        4.3.2 电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)分析第38-39页
        4.3.3 X射线衍射(XRD)分析第39-40页
        4.3.4 透射电子显微镜(TEM)分析第40-42页
        4.3.5 材料比表面特性分析第42-44页
        4.3.6 X射线光电子能谱(XPS)分析第44-46页
        4.3.7 氧气程序升温脱附(O_2-TPD)分析第46-47页
        4.3.8 氢气程序升温还原(H_2-TPR)分析第47-48页
        4.3.9 反应条件对催化剂活性的影响第48-51页
        4.3.10 催化剂热稳定性能研究第51-52页
    4.4 本章小结第52-54页
5 Pt-Zr/MCM-41催化剂的制备、表征及其催化性能研究第54-73页
    5.1 Pt-Zr/MCM-41催化剂的制备第54页
    5.2 主要表征手段第54页
    5.3 结果与讨论第54-71页
        5.3.1 催化活性测试结果第54-55页
        5.3.2 XRD测试结果第55-57页
        5.3.3 微观形貌表征结果第57-58页
        5.3.4 样品比表面积和孔径分析第58-59页
        5.3.5 NH_3-TPD分析第59-60页
        5.3.6 吡啶吸附红外分析第60-62页
        5.3.7 甲苯-TPD分析第62-63页
        5.3.8 XPS分析第63-64页
        5.3.9 O_2-TPD分析第64-66页
        5.3.10 H_2-TPR分析第66-67页
        5.3.11 催化荆稳定性研究第67-69页
        5.3.12 Pt-Zr/MCM-41系列催化剂对其他VOCs的催化活性第69-71页
    5.4 本章小结第71-73页
6 结论与建议第73-75页
    6.1 主要研究成果第73-74页
    6.2 研究展望第74-75页
参考文献第75-87页
作者简介第87页

 
 
论文编号BS2521849,这篇论文共87
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