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新型硅和锗的多形体及XC（X=Si,Ge）化合物的第一性原理研究 |
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| 摘要 | 第1-7页 | | Abstract | 第7-12页 | | 第1章 绪论 | 第12-32页 | | ·课题背景及研究意义 | 第12页 | | ·元素硅的结构及性质 | 第12-13页 | | ·硅的发现及性质 | 第12-13页 | | ·硅的用途 | 第13页 | | ·元素锗的结构及性质 | 第13-14页 | | ·锗的发现及性质 | 第13-14页 | | ·锗的应用 | 第14页 | | ·硅和锗的新相的研究 | 第14-25页 | | ·硅和锗的高压相 | 第15-18页 | | ·气相沉积法合成硅和锗的新相 | 第18-19页 | | ·化学方法合成硅和锗的新相 | 第19-24页 | | ·硅和锗的多形体的理论研究 | 第24-25页 | | ·碳化硅的性质和结构 | 第25-26页 | | ·碳化硅的性质及用途 | 第25页 | | ·碳化硅的结构 | 第25-26页 | | ·第一性原理计算的理论背景 | 第26-29页 | | ·密度泛函理论 | 第27-29页 | | ·基于粒子群优化的晶体结构预测方法 | 第29页 | | ·本文的主要研究内容 | 第29-32页 | | 第2章 压力驱动型硅和锗的多形体的第一性原理研究 | 第32-54页 | | ·引言 | 第32-33页 | | ·计算方法与参数 | 第33页 | | ·计算模型的建立 | 第33-34页 | | ·结果与讨论 | 第34-52页 | | ·结构参数 | 第34-35页 | | ·晶体稳定性讨论 | 第35-38页 | | ·实验对比 | 第38-40页 | | ·电子结构 | 第40-42页 | | ·光学性质 | 第42-48页 | | ·锗的高压中间相 | 第48-52页 | | ·本章小结 | 第52-54页 | | 第3章 非压力驱动型锗多形体新结构及物理性能预测 | 第54-68页 | | ·引言 | 第54页 | | ·计算方法与参数 | 第54页 | | ·结果与讨论 | 第54-67页 | | ·模型的建立 | 第54-58页 | | ·稳定性讨论 | 第58-59页 | | ·电子结构 | 第59-62页 | | ·光学性质 | 第62-67页 | | ·本章小结 | 第67-68页 | | 第4章 压致新型 Ge 纳米管聚合物的理论探索 | 第68-97页 | | ·引言 | 第68页 | | ·计算方法与参数 | 第68页 | | ·理论模型的建立 | 第68-70页 | | ·单壁纳米管的结构特点 | 第68-69页 | | ·Si 和 Ge 的纳米管模型的建立 | 第69-70页 | | ·Cco-Si8和 Cco-Ge8的理论研究 | 第70-80页 | | ·结构参数 | 第70-71页 | | ·两种合成路径 | 第71-79页 | | ·电子结构 | 第79-80页 | | ·压力聚合 Ge 纳米管的研究 | 第80-95页 | | ·聚合过程 | 第80-90页 | | ·稳定性讨论 | 第90-92页 | | ·电子结构 | 第92-94页 | | ·光学性质 | 第94-95页 | | ·本章小结 | 第95-97页 | | 第5章 XC (X=Si, Ge)纳米管聚合物结构和基本物理性质的理论预测 | 第97-115页 | | ·引言 | 第97页 | | ·计算方法与参数 | 第97-98页 | | ·计算结果与讨论 | 第98-114页 | | ·RS-GeC 的能带 | 第98页 | | ·纳米管聚合物的结构参数 | 第98-101页 | | ·稳定性讨论 | 第101-102页 | | ·维氏硬度和化学键的键强 | 第102-107页 | | ·电子结构 | 第107-109页 | | ·光学性质 | 第109-111页 | | ·光学常数 n-d 公式 | 第111-114页 | | ·本章小结 | 第114-115页 | | 结论 | 第115-117页 | | 参考文献 | 第117-131页 | | 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第131-132页 | | 致谢 | 第132-133页 | | 作者简介 | 第133页 |
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论文编号BS2016255，这篇论文共133页
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