|
|
|
|
二维材料二硒化钨和石墨烯的制备与光学性质研究 |
| |
| 论文目录 |
| |
| 摘要 | 第5-7页 | | Abstract | 第7-14页 | | 第一章绪论 | 第14-51页 | | 1.1二维材料简介 | 第14-15页 | | 1.2二硒化钨和石墨烯的结构、性质及应用 | 第15-22页 | | 1.2.1二硒化钨的结构、性质及应用 | 第15-19页 | | 1.2.2石墨烯的结构、性质及应用 | 第19-22页 | | 1.3二维材料的制备方法 | 第22-28页 | | 1.3.1机械剥离法 | 第22-23页 | | 1.3.2液相剥离法 | 第23-25页 | | 1.3.3水热合成法 | 第25页 | | 1.3.4化学气相沉积法 | 第25-27页 | | 1.3.5分子束外延法 | 第27-28页 | | 1.4应变对二维材料光学性质调控研究进展 | 第28-33页 | | 1.5化学气相沉积法制备石墨烯研究进展 | 第33-38页 | | 1.6本论文的研究目的和主要研究内容 | 第38-40页 | | 参考文献 | 第40-51页 | | 第二章实验仪器与表征方法 | 第51-59页 | | 2.1实验原料及仪器 | 第51-52页 | | 2.1.1实验材料及化学试剂 | 第51-52页 | | 2.1.2实验仪器及设备 | 第52页 | | 2.2实验表征方法 | 第52-57页 | | 2.2.1光学显微镜 | 第52-53页 | | 2.2.2拉曼光谱 | 第53-54页 | | 2.2.3光致发光光谱 | 第54-55页 | | 2.2.4二次谐波光谱 | 第55-56页 | | 2.2.5原子力显微镜 | 第56页 | | 2.2.6扫描电子显微镜 | 第56-57页 | | 参考文献 | 第57-59页 | | 第三章多层二硒化钨气泡的制备及光学性质研究 | 第59-82页 | | 3.1二硒化钨气泡的制备 | 第60页 | | 3.2二硒化钨气泡的基本表征 | 第60-65页 | | 3.2.1二硒化钨气泡的光学显微镜表征 | 第60-61页 | | 3.2.2二硒化钨气泡的原子力显微镜表征 | 第61-62页 | | 3.2.3二硒化钨气泡的拉曼光谱表征 | 第62-63页 | | 3.2.4二硒化钨气泡的光致发光光谱表征 | 第63-65页 | | 3.3应变调控二硒化钨光致发光特性 | 第65-70页 | | 3.4应变对二硒化钨能带结构的影响 | 第70-72页 | | 3.5应变调控二硒化钨拉曼光谱 | 第72-75页 | | 3.6应变调控二硒化钨二次谐波光谱 | 第75-78页 | | 3.7本章小结 | 第78页 | | 参考文献 | 第78-82页 | | 第四章高质量石墨烯的制备 | 第82-98页 | | 4.1化学气相沉积石墨烯的制备流程 | 第82-87页 | | 4.1.1铜箔基底表面预处理 | 第82-84页 | | 4.1.2石墨烯生长的工艺与参数 | 第84-86页 | | 4.1.3石墨烯薄膜的转移 | 第86-87页 | | 4.2基底预处理对石墨烯生长的影响 | 第87-89页 | | 4.3基底几何构型对石墨烯生长的影响 | 第89-92页 | | 4.4基底厚度对石墨烯生长的影响 | 第92-94页 | | 4.5高质量石墨烯的光学表征 | 第94-96页 | | 4.6本章小结 | 第96页 | | 参考文献 | 第96-98页 | | 第五章结论与展望 | 第98-101页 | | 5.1结论 | 第98-99页 | | 5.2展望 | 第99-101页 | | 攻读硕士期间学术成果 | 第101-102页 | | 致谢 | 第102-103页 |
|
|
|
|
论文编号BS4740257，这篇论文共103页
会员购买按0.35元/页下载，共需支付36.05元。 直接购买按0.5元/页下载，共需要支付51.5元 。 |
 |
 |
我还不是会员，注册会员！
会员下载更优惠!充值送钱！ |
我只需要这篇，无需注册！
直接网上支付，方便快捷！ |
|
|
|
版权申明：本目录由www.jylw.com网站制作，本站并未收录原文，如果您是作者，需要删除本篇论文目录请通过QQ或其它联系方式告知我们，我们承诺24小时内删除。 |
|
|
广告服务