摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
符号说明 | 第10-11页 |
第一章 前言 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 有机硅化合物 | 第12-13页 |
1.3 超支化聚合物 | 第13页 |
1.4 紫外光(UV)固化技术 | 第13-14页 |
1.4.1 紫外固化基本原理 | 第13-14页 |
1.4.2 紫外固化技术的工艺特点 | 第14页 |
1.5 紫外光固化材料 | 第14-18页 |
1.5.1 光引发剂 | 第15页 |
1.5.2 活性稀释剂 | 第15-17页 |
1.5.3 低聚物 | 第17-18页 |
1.5.4 添加剂 | 第18页 |
1.6 水性聚氨酯丙烯酸酯低聚物 | 第18-23页 |
1.6.1 水性聚氨酯的合成单体 | 第18-19页 |
1.6.2 异氰酸酯的反应机理 | 第19页 |
1.6.3 异氰酸酯的主要反应 | 第19-20页 |
1.6.4 有机硅改性水性聚氨酯丙烯酸酯低聚物 | 第20-21页 |
1.6.5 超支化改性水性聚氨酯丙烯酸酯低聚物 | 第21-23页 |
1.7 课题的研究目的、意义和研究内容 | 第23-25页 |
1.7.1 课题的目的和意义 | 第23页 |
1.7.2 课题的研究内容 | 第23-25页 |
第二章 端羟基超支化聚合物的合成 | 第25-32页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 实验药品 | 第25页 |
2.3 实验仪器 | 第25-26页 |
2.4 实验方法 | 第26-27页 |
2.4.1 端羟基超支化聚合物的合成 | 第26页 |
2.4.2 产物产率的测定 | 第26-27页 |
2.4.3 产物的红外光谱测定 | 第27页 |
2.5 结果与讨论 | 第27-31页 |
2.5.1 反应温度对N,N-二羟乙基3氨基丙酸甲酯单体产率的影响 | 第27-28页 |
2.5.2 反应时间对N,N-二羟乙基3氨基丙酸甲酯单体产率的影响 | 第28-29页 |
2.5.3 反应温度对端羟基超支化聚合物产率的影响 | 第29页 |
2.5.4 反应时间对端羟基超支化聚合物产率的影响 | 第29-30页 |
2.5.5 红外光谱分析 | 第30-31页 |
2.6 本章小结 | 第31-32页 |
第三章 超支化硅改性水性聚氨酯丙烯酸酯的合成 | 第32-52页 |
3.1 引言 | 第32页 |
3.2 实验药品 | 第32-33页 |
3.3 实验仪器 | 第33页 |
3.4 实验方法 | 第33-34页 |
3.4.1 超支化硅改性水性聚氨酯丙烯酸酯的合成 | 第33页 |
3.4.2 涂膜的制备 | 第33-34页 |
3.5 光固化膜性能测试 | 第34-35页 |
3.5.1 反应过程中-NCO含量的测定 | 第34页 |
3.5.2 光泽度的测定 | 第34页 |
3.5.3 光固化膜硬度的测定 | 第34页 |
3.5.4 光固化膜附着力的测定 | 第34-35页 |
3.5.5 光固化膜耐磨性的测定 | 第35页 |
3.5.6 光固化膜吸水率的测定 | 第35页 |
3.5.7 光固化膜拉伸强度与断裂伸长率的测定 | 第35页 |
3.6 红外光谱测定 | 第35-36页 |
3.7 核磁共振光谱(1HNMR)测定 | 第36页 |
3.8 热重(Tg)测定 | 第36页 |
3.9 凝胶色谱法(GPC)测定 | 第36页 |
3.10 结果与讨论 | 第36-50页 |
3.10.1 羟基硅油用量对产物性能的影响 | 第36-39页 |
3.10.2 二羟甲基丙酸(DMPA)用量对产物性能的影响 | 第39-40页 |
3.10.3 聚乙二醇-1000用量对产物性能的影响 | 第40-43页 |
3.10.4 端羟基超支化聚合物用量对产物性能的影响 | 第43-45页 |
3.10.5 反应温度对-NCO转换率的影响 | 第45-46页 |
3.10.6 催化剂用量对-NCO转换率的影响 | 第46-47页 |
3.10.7 超支化硅改性水性聚氨酯丙烯酸酯的红外表征 | 第47-48页 |
3.10.8 超支化硅改性水性聚氨酯丙烯酸酯的核磁表征 | 第48-49页 |
3.10.9 热重分析 | 第49-50页 |
3.10.10 凝胶色谱表征 | 第50页 |
3.11 本章小结 | 第50-52页 |
第四章 低聚物的光固化性能研究 | 第52-58页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 实验药品 | 第52页 |
4.3 实验仪器 | 第52-53页 |
4.4 试验方法 | 第53页 |
4.5 光固化膜性能测试 | 第53-54页 |
4.5.1 光固化时间的测定 | 第53页 |
4.5.2 光泽度的测定 | 第53页 |
4.5.3 光固化膜硬度的测定 | 第53页 |
4.5.4 光固化膜附着力的测定 | 第53-54页 |
4.5.6 光固化膜耐磨性的测定 | 第54页 |
4.5.7 光固化膜吸水率的测定 | 第54页 |
4.5.8 光固化膜拉伸强度与断裂伸长率的测定 | 第54页 |
4.6 结果与讨论 | 第54-57页 |
4.6.1 引发剂用量对固化时间的影响 | 第54-55页 |
4.6.2 活性稀释剂种类对固化时间的影响 | 第55-56页 |
4.6.3 活性稀释剂用量对固化时间的影响 | 第56-57页 |
4.6.4 纸张涂布性能 | 第57页 |
4.7 本章小结 | 第57-58页 |
第五章 结论与展望 | 第58-61页 |
5.1 结论 | 第58-60页 |
5.1.1 端羟基超支化聚合物的合成 | 第58页 |
5.1.2 超支化硅改性水性聚氨酯丙烯酸酯的合成 | 第58-59页 |
5.1.3 低聚物的光固化性能研究 | 第59-60页 |
5.2 创新之处 | 第60页 |
5.3 下一步工作建议 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-66页 |
攻读学位期间发表的学位论文 | 第66-67页 |
致谢 | 第67-68页 |