摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第16-30页 |
1.1 课题研究背景及意义 | 第16-18页 |
1.2 相关领域的研究现状 | 第18-27页 |
1.2.1 光栅刻划机的国内外研究现状 | 第18-25页 |
1.2.2 刻划光栅衍射波前研究的国内外研究现状 | 第25-27页 |
1.3 论文的主要研究内容及结构安排 | 第27-30页 |
1.3.1 论文的主要研究内容 | 第27页 |
1.3.2 论文的结构安排 | 第27-30页 |
第2章 光栅刻线误差模型及光栅刻划机的工作原理 | 第30-44页 |
2.1 引言 | 第30页 |
2.2 光栅刻线误差模型 | 第30-32页 |
2.3 光栅刻划机工作方式和运行原理 | 第32-35页 |
2.4 大型衍射光栅刻划机结构形式和工作原理 | 第35-43页 |
2.4.1 大型衍射光栅刻划机刻划系统结构形式和工作原理 | 第36-39页 |
2.4.2 大型衍射光栅刻划机分度系统的结构形式和工作原理 | 第39-43页 |
2.5 本章小结 | 第43-44页 |
第3章 光栅刻划微定位控制系统的建模及控制器设计 | 第44-64页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 大型衍射光栅刻划机的控制方案 | 第45-47页 |
3.3 大型衍射光栅刻划机微定位控制系统数学模型的建立 | 第47-54页 |
3.3.1 数学模型的建立 | 第47-52页 |
3.3.2 微定位系统的性能分析 | 第52-54页 |
3.4 大型衍射光栅刻划机微定位系统控制系统控制器设计 | 第54-58页 |
3.4.1 控制器设计 | 第54-56页 |
3.4.2 微定位控制系统仿真研究 | 第56-58页 |
3.5 实验研究 | 第58-62页 |
3.5.1 微定位控制系统对实测数据的跟踪 | 第58-60页 |
3.5.2 模拟刻划实验 | 第60-61页 |
3.5.3 光栅刻划实验 | 第61-62页 |
3.6 本章小节 | 第62-64页 |
第4章 测量系统引起的刻线误差对光栅波前质量的影响及修正方法 | 第64-96页 |
4.1 引言 | 第64-65页 |
4.2 刻线误差对光栅波前质量的影响 | 第65-66页 |
4.3 大型衍射光栅刻划机测量系统 | 第66-69页 |
4.3.1 双频激光干涉仪的测量原理 | 第67-68页 |
4.3.2 测量系统的光路结构 | 第68-69页 |
4.4 测量系统的余弦误差对刻线位置误差的影响 | 第69-71页 |
4.4.1 测量系统余弦误差产生的原因 | 第69-70页 |
4.4.2 测量系统余弦误差的减小方法 | 第70-71页 |
4.5 测量系统的阿贝误差对刻线位置误差的影响 | 第71-78页 |
4.5.1 测量系统阿贝误差产生的原因 | 第71-73页 |
4.5.2 测量系统阿贝误差与光栅波前质量之间数学模型的建立 | 第73-74页 |
4.5.3 测量系统阿贝误差测量、仿真与校正 | 第74-77页 |
4.5.4 阿贝误差对波前质量影响的刻划实验研究 | 第77-78页 |
4.6 刻划机工作的环境对刻线误差的影响 | 第78-93页 |
4.6.1 大气环境产生刻线误差的原因 | 第78-80页 |
4.6.2 大气环境引起的测量误差对波前质量的影响 | 第80-81页 |
4.6.3 大气环境引起的测量误差的测量、仿真分析与校正 | 第81-93页 |
4.7 本章小节 | 第93-96页 |
第5章 光栅基底镀膜引起的基底面形误差对波前质量的影响及镀膜均匀性的优化 | 第96-110页 |
5.1 引言 | 第96-97页 |
5.2 光栅基底面形误差对衍射波前质量的影响 | 第97-98页 |
5.3 光栅膜层均匀性对波前质量的影响 | 第98-101页 |
5.4 仿真和实验研究 | 第101-108页 |
5.4.1 镀膜均匀性优化前对光栅衍射波前质量的仿真和实验研究 | 第101-103页 |
5.4.2 镀膜均匀性的优化 | 第103-106页 |
5.4.3 镀膜均匀性优化后对光栅衍射波前质量的仿真和实验研究 | 第106-108页 |
5.5 本章小节 | 第108-110页 |
第6章 总结与展望 | 第110-114页 |
6.1 论文工作总结 | 第110-111页 |
6.2 展望 | 第111-114页 |
参考文献 | 第114-122页 |
致谢 | 第122-124页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学位论文与研究成果 | 第124-125页 |